半導體純水系統(tǒng)技術(shù)應用成為行業(yè)用水重中之重

時間：2022-10-17

　　半導體行業(yè)是一個高能耗的行業(yè)。在半導體產(chǎn)品制造過程中，由于生產(chǎn)設備的精密性和生產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水系統(tǒng)的使用要求更高。

　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需要進行化學處理，而化學處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會進入硅片，如帶入過量的雜質(zhì)，就會導致器件性能下降、影響產(chǎn)品性能。因此，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技術(shù)。

　　超純水既將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。

　　超純水處理是一般工藝很難達到的程度，萊特萊德采用預處理、反滲透技術(shù)、靶向離子交換系統(tǒng)以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。

　　半導體業(yè)由于技術(shù)發(fā)展迅速、市場變化大，其生產(chǎn)能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水系統(tǒng)要有一定的可調(diào)節(jié)性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水系統(tǒng)投入運行后，能夠生產(chǎn)出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水提供用水保障。

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